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铜的电镀

使用硫酸铜溶液和铜电极(阳极和阴极)进行镀覆。当电源开启时,Cu²⁺会从阴极接收电子,并沉淀。仪器上显示的时间为 s。

    C20 · 铜的电镀准备
    使用硫酸铜溶液和铜电极(阳极和阴极)进行镀覆。当电源开启时,Cu²⁺会从阴极接收电子,并沉淀。仪器上显示的时间为 s。您也可以通过下面的数字和控制来进行实验。

    化学 · 电化学 / 原理与探索

    铜的电镀实验解说

    在铜电镀过程中,通过测量传递的电荷量,可以确定沉积的铜量。通过改变恒定电流、镀时间以及表面积,比较镀层的质量和平均厚度。我们研究了质量守恒定律,以及随着表面积增大,相同量的铜所沉积的厚度减小的现象。

    它是怎么工作的?

    质量与电流和时间成比例,并且与面积无关。如果相同的质量被涂覆得更宽,则平均厚度会变薄。

    关键关系

    Q = It · m = QM/(nF) · 平均厚度 = m/(ρ·面积)

    尝试这个实验

    1. 使用硫酸铜溶液和铜电极(阳极和阴极)进行镀覆。当电源开启时,Cu²⁺会从阴极接收电子,并沉淀。仪器上显示的时间为 s。
    2. 将 3600 秒,以 1 A 和 2 A 的电流下,所镀的质量进行比较。
    3. 在标准条件下,只有面积被加倍,或者只有时间被减半。面积仅影响平均厚度。

    解读您的结果

    什么因素决定在 100% 效率下的铜沉淀质量?

    m = ItM / (nF) 且平均厚度为 m / (ρ·面积)。 面积决定了相同质量被分割的程度。

    假设与限制

    这是一个教学模型,具有 100% 的当前效率,恒定电流,M=63.55 g/mol,n=2,F=96485 C/mol,ρ=8.96 g/cm³。 提供的铜阳极产生的 Cu²⁺ 足够,不考虑浓度降低、副反应、电压、表面粗糙度和厚度不均匀。 面积是总镀覆面积,仅计算均匀平均厚度。 镀覆层的厚度图像是放大图像。